正式确认,国内的光刻机完全可以生产5纳米,先进工艺不再是桎梏中国芯片产业长期以来面临先进工艺的瓶颈，尤其在EUV光刻机的缺失下，国产企业曾依赖2000i进行7纳米工艺生产。然而，国内企业并未放弃，通过浸润式DUV光刻机和多重曝光技术，近期海外实验室已证实，这种技术理论上能生产出5纳米甚至更先进的工